水分是半導體制造過程中影響較大的污染物之— 準確測量水分、濕度和溫度

半導體制造業流傳著一句話：“這不是火箭科學，但比火箭科學難多了！"雖是玩笑話，卻從一定程度上反映了事實：半導體制造過程既復雜又耗時，制造周期長達 12 到 20 周。制造半導體所需的初期投資巨大，制造流程需要的設備非常昂貴。在新一輪投資周期開始之前，一個制造周期通常會持續大約六年，并且整個生產過程的利潤率相對較低，這意味著只有高產量才能保證盈利。因此，避免生產廢品和不良品至關重要。

水是半導體制造過程中影響較大的污染物之一，一些預估表明，不合適的濕度條件造成的損失占收入損失的 25%。為避免產品質量和產量出現問題，在半導體制造過程中必須尤為謹慎地監測濕度和溫度水平。維薩拉的高精度測量解決方案適用于制造工藝流程中的關鍵步驟，響應非常迅速，且能夠適應各種環境條件。在本篇文章中，我們將介紹濕度、水分、微量水分相關濕度、露點和霜點等參數。

高科技納米級半導體制造

對于高科技納米級半導體制造等超純應用，在去除灰塵、油脂和其他污染元素等雜質后，可能會殘留微量水分。這可能會對產品質量和產量產生負面影響。雖然不可能全消除流程中的每一個水分子，但我們應該借助準確測量工具很大程度上減少水分含量。

潔凈室暖通空調

潔凈室暖通空調 (HVAC) 系統通常內置在空氣處理裝置或風扇過濾裝置中。水分可能會污染工藝過程、與工藝過程中的化學品發生反應或導致靜電放電 (ESD) 問題。某些情況下需要達到 +/?2% 的相對濕度測量準確度以及 +/?0.25°C 的溫度測量準確度。維薩拉變送器非常適合用于控制通風機內部或潔凈室墻壁上的空調機。

根據在潔凈室中進行的工藝過程，目標濕度和溫度可能有所不同。維薩拉的 HUMICAP® 傳感器技術在任何環境下的響應都非常迅速，而且準確度高，具有出色的長期穩定性和較長的維護間隔。HUMICAP 傳感器基于聚合物薄膜技術，并且在維薩拉自己的潔凈室中制造。

工藝管線氣體質量

潔凈室操作需要高質量的過程氣體，監測工藝管線氣體中的濕度水平可防止可能導致材料損失的水分污染。目標通常是盡量降低含水率，為此要監測的正確參數是露點。選擇傳感器時，響應速度快和耐冷凝特性非常重要，因為這二者有助于確?？煽坎僮?，即使在長時間停機后還能實現工藝過程平穩加速。

維薩拉 DRYCAP® 技術采用我們專有的聚合物薄膜技術，該技術可實現高靈敏度、針對各種環境和應用進行靈活優化，即使在惡劣環境下也具有長期穩定性。凈化功能可以去除薄膜中不需要的殘留物，即使在次優條件下也能確保長期準確度。

維薩拉自動校準功能使用專有設計和算法，可消除環境老化對傳感器結構的影響。長期監測傳感器性能有助于傳感器糾正靈敏度變化，提高長期穩定性，使其使用壽命遠遠超出傳統的傳感器，并減少惡劣環境條件對其性能的影響。維薩拉傳感器響應速度快，能夠在系統發生故障時迅速做出反應以防止材料損失。

壓縮空氣質量

壓縮空氣潔凈度對于大多數工業設施的潔凈室環境至關重要，因此目標多余水分含量非常低：目標露點水平可低于 ?80 °C，通常系統會設置多個警報級別，一旦超出此目標水平即發出警報。維薩拉產品在整個測量范圍內都經過嚴格測試和校準，以確保傳感器讀數高度準確，降低高成本的過度干燥風險。維薩拉濕度傳感器單元的響應非常迅速，可以及時發出警報，使客戶能夠快速識別和解決任何問題。